直接在您的材質工作流程中建立環境光遮蔽 (AO) 貼圖，無需將資產匯出至其他應用程式。這能加快迭代速度，並保持紋理製作過程的一致性與連續性。
此功能讓您能在製作或編輯材質的同一個應用程式內，直接產生環境光遮蔽 (AO) 貼圖。它消除了為了烘焙或導出 AO 而必須將網格或紋理匯出至外部工具的需求，從而減少了切換環境的麻煩。您可以快速產出 AO 結果，用於為材質增加接觸陰影、深度與接地感。此工作流程專為快速迭代而設計，讓您能輕鬆調整輸入參數，並立即查看 AO 對最終視覺效果的影響。將 AO 產生保留在應用程式內，也有助於維持設定的一致性並減少檔案管理的負擔。它支援常見的材質製作任務，例如增強縫隙細節、提升感知細節以及更自然地混合圖層。這在進行外觀開發時特別有用，因為您可以在調整材質參數的同時獲得快速回饋。無論是個人藝術家還是團隊，都能透過簡化流程並減少對多種工具的依賴而受益。總體而言，此功能可提升生產力，並協助您更快完成精緻的材質製作。
外部資源
https://normalmapai.com/
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